मुख्य सामग्री पर जाएं पृष्ठ फुटर पर जाएं
professional
photonics.

BSM-03 – Hg मीडियम-प्रेशर लैंप के साथ ब्रॉडबैंड यूवी विकिरणन

2 kW आउटपुट वाला BSM-03 यूवी क्योरिंग चैंबर बड़े क्षेत्र की यूवी क्योरिंग, हार्डनिंग और आबंधन के लिए सर्वोत्तम रूप से उपयुक्त है। सटीक विकिरण मात्रा के लिए आंतरिक शटर को UV-MAT द्वारा नियंत्रित किया जाता है, जिससे मीडियम-प्रेशर लैंप के साथ भी पुनरुत्पादनीय उद्भासन प्राप्त होता है। 150 mW/cm² की विकिरण तीव्रता के साथ, आवश्यक विकिरण मात्रा सामान्यतः कुछ सेकंड के भीतर प्राप्त हो जाती है।

यह जाँचा जा सकता है कि आवश्यक विकिरण मात्रा प्राप्त हुई है या नहीं, हमारे यूवी मीटर और विकिरणमापियों (रेडियोमीटर) की सहायता से।

लैंप चालू रहते हुए भी यूवी क्योरिंग चैंबर को लोडिंग और अनलोडिंग के लिए खोला जा सकता है। शटर की निगरानी की जाती है और सुरक्षा सर्किट द्वारा इसे बंद किया जाता है, ताकि चैंबर के बाहर कोई यूवी विकिरण उत्सर्जित न हो। स्लाइडिंग नमूना समर्थन भी लोडिंग और अनलोडिंग को सुगम बनाता है।

मीडियम-प्रेशर लैंप व्यक्तिगत रेखाओं के बजाय ब्रॉडबैंड यूवी विकिरणन प्रदान करता है – यही लो-प्रेशर या LED चैंबर से अंतर है, और यही कारण है कि अज्ञात फोटोइनिशिएटर वाले फॉर्मूलेशन को भी यहाँ क्योर किया जा सकता है।


नमूना समर्थन 20 kg तक के भार सहन करता है। 60 × 40 cm आधार और 25 cm ऊँचाई के साथ, विकिरणन कक्ष पर्याप्त स्थान प्रदान करता है। प्रचालन के दौरान नमूना कक्ष का तापमान लगभग 45 °C होता है। विकिरण की उच्च समरूपता के कारण, नमूनों को कहीं भी रखा जा सकता है।

यूवी क्योरिंग चैंबर के अनुप्रयोग

  • यूवी क्योरिंग (पराबैंगनी उपचारण)
  • यूवी सीलिंग
  • यूवी आबंधन
  • यूवी ग्लूइंग
  • सतह सक्रियण

UV क्योरिंग चैंबर BSM-03 की तकनीकी जानकारी

आंतरिक कक्ष 60 × 40 × 25 cm
आयाम 77 × 62 × 80 cm
वजन ~ 80 kg
विद्युत खपत 2200 W (विकिरणन); 850 W (स्टैंड-बाय)
मेन्स विद्युत आपूर्ति 3 × 230/400 VAC, 16 A, CEE 400V 16A
रिसाव धारा ~ 18 mA
पावर फैक्टर 0.9
प्रचालन तापमान 15 से 30 °C तक
आर्द्रता < 80%, संघनन रहित
लैंप जीवनकाल 1,000 h से 3,000 h तक, सामान्यतः
लैंपों की संख्या 1
नमूना तापमान 45 °C ± 10 °C
वर्णक्रमीय परास 1 मानक, 2-4 वैकल्पिक
विकिरण तीव्रता 150 mW/cm² तक
उपलब्ध लैंप Hg, Fe, Ga
शटर नियंत्रण न्यूमैटिक, 4–6 bar
शीतलन 1 x DN 100

उपकरण विस्तार से

क्योरिंग कक्ष का डिज़ाइन मॉड्यूलर है और इसलिए इसे विभिन्न अनुप्रयोगों के अनुसार अनुकूलित किया जा सकता है। ये फंक्शन हमेशा शामिल होते हैं:

BSM-03 का UV-MAT विकिरण मात्रा और शटर नियंत्रण

विकिरण मात्रा नियंत्रण

UV-MAT विकिरणन नियंत्रण निरंतर विकिरण तीव्रता मापता है और निर्धारित लक्ष्य विकिरण मात्रा प्राप्त होते ही विकिरणन समाप्त कर देता है। इसके लिए यह आंतरिक शटर को नियंत्रित करता है, जिससे विकिरणन लैंप की उम्र, गंदगी और तापमान से स्वतंत्र रहता है।

विकिरणमापी सेंसर के आकार (चित्रण के समान)

सेंसर

अंशांकित विकिरणमापी सेंसर विकिरण मात्रा नियंत्रण के लिए मापन शीर्ष के रूप में कार्य करता है। एकीकृत डिफ्यूज़र आवश्यक कोसाइन सुधार प्रदान करता है। उपयुक्त सामग्री सेंसर को उत्कृष्ट दीर्घकालिक स्थिरता प्रदान करती है; इसे PTB मानकों के अनुसार अनुरेखणीय रूप से अंशांकित किया जाता है, पुनर्अंशांकित किया जा सकता है और इसके साथ फैक्ट्री अंशांकन प्रमाणपत्र दिया जाता है।

BSM-03 का सेंसर होल्डर, विकिरणमापी सेंसर के लिए गोल सीट के साथ

सेंसर होल्डर

सेंसर होल्डर विकिरणमापी सेंसर को कक्ष के किनारे पर स्थिर रखता है। नमूने पर मापन के लिए सेंसर को हटाया जा सकता है, ताकि आवश्यक स्थिति पर विकिरण तीव्रता निर्धारित की जा सके। UV-MAT को एक गुणांक द्वारा इसके अनुसार समायोजित किया जा सकता है।

टाइमर का प्रतीक

टाइमर

विकिरण मात्रा नियंत्रण के विकल्प के रूप में हम एक समायोज्य टाइमर प्रदान करते हैं। यह 1 s से 500 h तक की सरल विकिरणन प्रक्रियाओं के लिए उपयुक्त है।

डिमिंग के लिए तीन स्लाइडरों का प्रतीक

लैंप डिमिंग

लैंप डिमिंग से विकिरण तीव्रता को परिवर्तित किया जा सकता है। इसे UV-MAT पर सेट किया जाता है।

ऑर्डर नंबर, आपूर्ति का दायरा, सहायक उपकरण और संस्करण

वर्शनऑर्डर नंबर
BSM-03860913

चैंबर लैंप, सेंसर होल्डर और नियंत्रण के साथ आपूर्ति की जाती है; कृपया अपने ऑर्डर के साथ आवश्यक लैंप प्रकार बताएं। आपूर्ति के दायरे में BSM-03, मेन्स केबल, मैनुअल, यूवी लैंप (जब तक अन्यथा निर्दिष्ट न हो, ओज़ोन रहित) और सेंसर होल्डर शामिल हैं।

बिल्ट-इन SINAMICS V20 इन्वर्टर की लीकेज करंट 3.5 mA से अधिक हो सकती है। इसलिए एक स्थायी अर्थ कनेक्शन आवश्यक है।

संस्करणऑर्डर नंबर
UV-MAT820920M

कक्ष को UV-MAT द्वारा नियंत्रित किया जाता है। यह विकिरण तीव्रता मापता है, आंतरिक शटर को नियंत्रित करता है और लक्ष्य विकिरण मात्रा प्राप्त होने पर बंद हो जाता है।

लैंप प्रकारऑर्डर नंबर
बदली लैंप Hg860813H
बदली लैंप Fe860813F
बदली लैंप Ga860813G

मध्यम-दाब लैंप तीन डोपिंग में उपलब्ध है: मरकरी (Hg), आयरन (Fe) और गैलियम (Ga)। ये अपने स्पेक्ट्रम में भिन्न होते हैं और इसलिए अपने क्योरिंग (उपचारण) प्रभाव में भी भिन्न होते हैं।

पदनामऑर्डर नंबर
सेंसर होल्डर86080H

विकिरणमापी (रेडियोमीटर) सेंसरों में से प्रत्येक का अपना नंबर वर्णक्रमीय परास के अनुसार होता है (नंबर परास 8144XX); ये आपको विकिरणमापी सेंसर के अंतर्गत मिलेंगे।

यूवी विकिरणन कक्षों का उपयोग करने वाले प्रकाशन

हम इस विशिष्ट उपकरण के लिए अलग ग्रंथसूची नहीं रखते हैं - प्रकाशनों में सामान्यतः उत्पाद परिवार का नाम दिया जाता है, मॉडल का नहीं। यहाँ उन 10 नवीनतम कार्यों को सूचीबद्ध किया गया है जिनमें यूवी विकिरणन कक्षों का उपयोग किया गया था।

शीर्षकलेखकजर्नलवर्ष
Bacillus subtilis endospore integrity and viability on simulated Martian regolith in rotational UVC radiation exposuresDavis, G. M.; Horner, J.; Greenhill, A. R. et al.Life Sciences in Space Research2026
Erlotinib and Leflunomide Disrupt 6‐Formylindolo [3, 2‐b] Carbazole Metabolism and Sensitize Keratinocytes to UVA Radiation‐Induced ApoptosisHartung, F.; Dairou, J.; Ramamoorthy, S. et al.Photodermatology, Photoimmunology & Photomedicine2026
Estudo para remoção de ácido p-arsanílico em águas brutas e potáveis com a subsequente quantificação de as por cvg-mip oes——2026
High-Throughput Complex Disease Modeling for Ethical Drug Discovery: Clinical Relevance of a NAM Platform for Cancer Biomarker DevelopmentDillier, E.; Sousa, R.; Kluser, T. et al.Journal of Cancer Genetics And Biomarkers2026
Influence of Treated Surface Proportion on the Antibacterial Performance of UV-Activated Hydroxyapatite–Magnesium Phosphate–Zinc Oxide Coating on Magnesium AlloysTamurejo-Alonso, P.; Casares-López, J. M.; García-Galván, F. R. et al.Journal of Functional Biomaterials2026
Influence of UV irradiation on the skin-immune cell inflammatory responseMiceli, R.; Allen, N.; Jankowski, M. et al.—2026
Light-based footprinting of a eukaryotic genomeÖgren, L.; Muylaert, I.; Elliott, K. et al.Science Advances2026
MED20 biallelic pathogenic variants cause a neurodevelopmental disorder altering both transcription activity and Transcription-Coupled Repair pathwayMay, N. L.; Leconte, R.; Alberti, A. et al.—2026
Passivating Contacts-Related Ultraviolet-Induced Degradation in Silicon Heterojunction Solar CellsXu, B.; Alkhereibi, S.; Eberst, A. et al.Small Structures2026
Porous g-C₃N₄ with simultaneous carbon doping for photocatalytic water treatment and splittingSarifuddin, W. S.; Saman, F.; Mahadi, A. H. et al.Next Materials2026