यूवी AOP कक्ष BS-OX: 185 nm और ओज़ोन के साथ प्रकाश-रासायनिक सतह सफाई
BS-OX एक यूवी AOP विकिरणन कक्ष है जो प्रकाश-रासायनिक सतह सफाई, ओज़ोन उपचार और लक्षित संपर्क कोण संशोधन के लिए है। यह पुर्जों को आबंधित, लेपित या मुद्रित करने से पहले कार्बनिक संदूषण को हटाता है और सतह ऊर्जा को बढ़ाता है – बिना किसी गीले-रासायनिक पूर्व-उपचार के। लगभग 1% ऑक्सीजन वाले ऑक्सीजन-न्यून वातावरण में, 185 nm ओज़ोन और अभिक्रियाशील ऑक्सीजन स्पीशीज़ उत्पन्न करता है जो अवशेषों का ऑक्सीकरण करती हैं; 254 nm विसंक्रमण और प्रत्यक्ष प्रकाश-अपघटन के लिए उपयोगी है। आठ UVC लैंप ओज़ोन-रहित, ओज़ोन-उत्पादक या मिश्रित (4+4) रूप में लगाए जा सकते हैं।
ऑक्सीजन-न्यून वातावरण में 185 nm UVC के साथ प्रकाश-रासायनिक सफाई और सक्रियण ओज़ोन निर्माण और अभिक्रियाशील ऑक्सीजन स्पीशीज़ के उत्पादन की ओर ले जाता है। ये कार्बनिक संदूषकों का प्रभावी ढंग से ऑक्सीकरण करते हैं और सतह ऊर्जा को बढ़ाते हैं। इसके परिणामस्वरूप गीलेपन में सुधार और संपर्क कोण में पुनरुत्पादनीय कमी होती है। 185 nm UVC, ओज़ोन और रेडिकल्स की यह पारस्परिक क्रिया एक उन्नत ऑक्सीकरण प्रक्रिया (AOP) है – इसीलिए इसे यूवी AOP कक्ष कहा जाता है।
साथ ही, यूवी विकिरण इतना ऊर्जावान होता है कि वह उदाहरण के लिए कार्बनिक यौगिकों को विखंडित कर सके।
185 nm स्पेक्ट्रम का उपयोग ओज़ोन और रेडिकल निर्माण के साथ-साथ कार्बनिक अवशेषों के प्रत्यक्ष प्रकाश-अपघटन के लिए किया जाता है।
अंतर्निहित क्रियाविधि का वर्णन UVC के साथ सतह सफाई और सक्रियण में किया गया है।
254 nm तरंगदैर्घ्य पारंपरिक UVC प्रक्रियाओं जैसे विसंक्रमण और लेपन प्रक्रियाओं के लिए पूर्व-उपचार को भी संभव बनाती है।
BS-OX 8 ओज़ोन-रहित या ओज़ोन-उत्पादक UVC लैंप के साथ प्रचालित हो सकता है। 4+4 अनुपात में मिश्रित विन्यास ओज़ोन-युक्त या ओज़ोन-रहित प्रक्रिया वातावरण के साथ वैकल्पिक प्रचालन की अनुमति देता है, जिससे सफाई, ऑक्सीकरण और सतह सक्रियण का सटीक नियंत्रण संभव होता है।
सभी आंतरिक सतहें बिना लेपित धातुओं और क्वार्ट्ज़ ग्लास से बनी हैं। कार्बनिक लेपन या पॉलिमर-आधारित सुरक्षात्मक परतों का पूरी तरह से परित्याग किया गया है। इसका अर्थ है कि 185 nm/254 nm विकिरणन के तहत कोई क्षरण उत्पाद और कोई आउटगैसिंग नहीं होती। परिणामस्वरूप सतह सफाई, ओज़ोन उपचार और पुनरुत्पादनीय संपर्क कोण परिवर्तनों के लिए स्थिर सीमा स्थितियों वाला एक प्रक्रिया कक्ष प्राप्त होता है।
BS-OX औद्योगिक और वैज्ञानिक अनुप्रयोगों के लिए डिज़ाइन किया गया है जिनमें कार्बनिक अवशिष्ट फिल्में, फोटोरेसिस्ट अवशेष या अधिशोषक घटकों की कार्यक्षमता को सीमित करते हैं।
AOP कक्ष BS-OX के अनुप्रयोग क्षेत्र
- आबंधन, सीलिंग या कोटिंग से पहले पॉलिमर, कांच, सिरेमिक और धातु सतहों का सक्रियण
- प्रकाशिक घटकों, वेफ़र, माइक्रोचिप और फ़िल्टर की सफाई तथा उसके बाद ध्रुवीय सतह क्षेत्र में वृद्धि
- माइक्रोफ्लुइडिक्स, चिकित्सा प्रौद्योगिकी और सेंसर प्रौद्योगिकी के लिए संपर्क कोण और सतह ऊर्जा का समायोजन
- गंध- या रंग-सक्रिय कार्बनिक संदूषकों का स्टरलाइज़ेशन और निम्नीकरण
185 nm और 254 nm पर द्वि-विकिरणन फोटोलिसिस तथा डाउनस्ट्रीम ओज़ोन/ऑक्सीकरण एवं रैडिकल अभिक्रियाओं के माध्यम से कार्बनिक अवशेषों के विश्वसनीय क्षरण को संभव बनाता है।
साथ ही, सतह का ध्रुवीय भाग बढ़ जाता है, जो भिगोने की क्षमता (वेटेबिलिटी) और संपर्क कोण को निर्धारित करता है।
सिद्ध BS विकिरणन कक्ष प्लेटफ़ॉर्म पर आधारित, पर्याप्त आंतरिक आयामों वाला एक समांगी, उच्च-प्रदर्शन UVC नमूना कक्ष उपलब्ध है। कम प्रक्रिया समय, मध्यम नमूना तापमान, और लचीले लैंप विन्यास BS-OX को अनुसंधान, विकास और उत्पादन के लिए एक सुदृढ़ प्रणाली के रूप में योग्य बनाते हैं, विशेष रूप से अर्धचालक और प्रकाशिकी विनिर्माण में तथा आधुनिक सामग्रियों के सतह पूर्व-उपचार में।
AOP कक्ष BS-OX का तकनीकी डेटा
| आंतरिक कक्ष | 50 × 30 × 25 cm |
| आयाम, कक्ष | 81 × 59 × 63 cm |
| आयाम, UV-MAT | 19 × 25 × 10 cm |
| वज़न | ~ 60 kg |
| विकिरणन समय | 1 s से 999 दिन तक |
| विद्युत खपत | 225 W |
| मेन्स विद्युत आपूर्ति | 230 VAC, 2 A |
| प्रचालन तापमान | 10 से 40 °C तक |
| आर्द्रता | < 80% संघनन रहित |
| लैंप जीवनकाल | 8,000 h तक |
| लैंपों की संख्या | 8 |
| लैंप प्रकार | UVC, ओज़ोन उत्पादक; वैकल्पिक रूप से ओज़ोन रहित |
| लैंप शक्ति | प्रत्येक 20 W |
| नमूना तापमान | 25 °C ± 5 °C |
| गैस इनलेट / गैस आउटलेट | Festo QSK-G1/4-10, 10 mm नली व्यास के लिए |
| निकास वायु | नालीदार धातु नली और उपयुक्त निकास वायु उपचार के लिए DN 100 कनेक्टर |
| वर्गीकरण | DIN EN 12198:2000 के अनुसार समूह 0 |
ओज़ोन यूवीसी कक्ष: 185 nm की आवश्यकता किसलिए है
एक सामान्य यूवीसी कक्ष 254 nm पर कार्य करता है और आबंधों को तोड़ता है। एक ओज़ोन यूवीसी कक्ष इसमें 185 nm जोड़ता है – यह तरंगदैर्घ्य वायुमंडलीय ऑक्सीजन को विभाजित करती है और कक्ष के भीतर ओज़ोन उत्पन्न करती है। इसके बाद ओज़ोन 254 nm के अंतर्गत परमाणु ऑक्सीजन में विघटित हो जाता है।
केवल यही संयोजन सतहों को अणुगत अवशेष तक साफ करता है। केवल 254 nm से कार्बनिक फिल्म बनी रहती है; केवल 185 nm से दूसरा चरण अनुपस्थित रहता है।
विकिरणन कक्ष BS-OX के स्पेक्ट्रा
लैंप विन्यास प्रक्रिया तय करता है। पहला चित्र ओज़ोन-उत्पादक UVC लैंप दिखाता है: 254 nm के अलावा यह 185 nm पर भी उत्सर्जन करता है, और यह रेखा ऑक्सीजन को ओज़ोन और अभिक्रियाशील ऑक्सीजन स्पीशीज़ में विभाजित करती है। दूसरा चित्र ओज़ोन रहित लैंप दिखाता है, जहाँ 185 nm अनुपस्थित है और केवल 254 nm पर प्रत्यक्ष प्रकाशअपघटन कार्य करता है। ऑक्सीकरण और प्रकाशअपघटन के बीच संतुलन बनाने के लिए दोनों प्रकारों को मिलाया जा सकता है (4+4)।
BS-OX पर ओज़ोन और निकास वायु के बारे में अक्सर पूछे जाने वाले प्रश्न
नहीं। जब तक विकिरणन चल रहा हो, BS-OX का दरवाज़ा बंद रहता है। विकिरणन समाप्त होने के बाद भी दरवाज़ा तुरंत नहीं खुलता: एकीकृत पर्ज नियंत्रण पहले निर्धारित पर्ज और निष्कर्षण चरण को पूरा करता है और तभी दरवाज़ा अनलॉक करता है। इससे यह सुनिश्चित होता है कि ओज़ोन प्रक्रिया के तुरंत बाद कक्ष को खोलकर संचालक को अभी भी मौजूद ओज़ोन के संपर्क में आने से बचाया जा सके।
5 मिनट का समय मानें। वास्तव में शेष रह जाने वाली ओज़ोन सांद्रता मिश्रण, लोड और प्रारंभिक सांद्रता पर निर्भर करती है और इसका आकलन संचालक के जोखिम मूल्यांकन के भाग के रूप में किया जाना चाहिए।
बंद कक्ष के भीतर ओज़ोन सांद्रता का निरंतर मापन मानक BS-OX का हिस्सा नहीं है। वास्तव में मौजूद सांद्रता कई प्रक्रिया मापदंडों पर निर्भर करती है: लैंप कॉन्फ़िगरेशन (ओज़ोन उत्पादक, ओज़ोन रहित या मिश्रित 4+4), विकिरणन समय, ऑक्सीजन सांद्रता, वायु प्रवाह और कक्ष के भीतर होने वाली ऑक्सीकरण अभिक्रियाएँ। इसके अतिरिक्त, ऑक्सीजन और ओज़ोन सेंसर तुलनात्मक रूप से जल्दी पुराने हो जाते हैं और लगभग हर छह महीने में उन्हें अंशांकित किया जाना आवश्यक होता है – इसलिए स्थायी रूप से लगाया गया मापन निरंतर रखरखाव का प्रयास बनाता है। व्यवहार में, प्रक्रिया मापदंडों को स्थिर रखकर पुनरुत्पादनीय परिणाम प्राप्त किए जाते हैं।
BS-OX में DN 100 कनेक्शन है और यह उपयुक्त निकास वायु या निकास वायु उपचार से जोड़े जाने के लिए बनाया गया है। l/min में सामान्य रूप से लागू न्यूनतम या अधिकतम आयतन प्रवाह को उपयुक्त रूप से निर्धारित नहीं किया जा सकता, क्योंकि यह विशेष इंस्टॉलेशन और इच्छित प्रक्रिया पर निर्भर करता है। निष्कर्षण के लिए एक संदर्भ मान के रूप में, प्रति मिनट एक कक्ष आयतन मानें, यानी लगभग 40 l/min या 2.4 m³/h। यहाँ प्रभाव की दिशा महत्वपूर्ण है: विकिरणन के दौरान उच्च निरंतर वायु विनिमय कक्ष के भीतर ओज़ोन सांद्रता को कम कर देता है और इस प्रकार प्रक्रिया को कमजोर करता है, जबकि पर्ज चरण के दौरान उच्च आयतन प्रवाह वांछनीय होता है।
दोनों विकिरणन नियंत्रणों की तुलना
| विशेषता |  |  |
|---|---|---|
| डिस्प्ले | कैपेसिटिव टच डिस्प्ले | मोनोक्रोम, 128 x 64 px |
| मेमोरी | USB स्टिक | – |
| समय-नियंत्रित विकिरणन | हाँ | हाँ |
| मापों की रिकॉर्डिंग | हाँ | – |
| स्क्रीनशॉट को USB स्टिक पर सहेजा जा सकता है | हाँ | – |
| विकिरणन को रोकना और पुनः प्रारंभ करना | हाँ | – |
| किसी विकिरणन में नोट्स और टिप्पणियाँ जोड़ना | हाँ | – |
| पीसी से रिमोट नियंत्रण | हाँ | – |
| विकिरणन रिकॉर्ड | USB स्टिक पर | पीसी पर |
| उपयोगकर्ता प्रबंधन और एडमिन मोड | हाँ | – |
| सरल फर्मवेयर अपग्रेड | हाँ | हाँ |
दोनों नियंत्रण एक ही सेंसर का उपयोग करते हैं, इसलिए एक सेंसर का उपयोग किसी भी डिवाइस के साथ किया जा सकता है।
UV-MAT Touch को एक उच्च-रिज़ॉल्यूशन कैपेसिटिव टचस्क्रीन के माध्यम से संचालित किया जाता है। एक Cortex ARM प्रोसेसर स्थायित्व और अद्यतन करने की क्षमता प्रदान करता है - नए फंक्शन साइट पर ही इंस्टॉल किए जा सकते हैं। डिवाइस और PC सॉफ्टवेयर Windows 10 और 11 के साथ संगत हैं। सिंगल- और मल्टी-चैनल विकिरणन को ऑसिलोग्राम और सेटिंग्स के साथ संख्यात्मक और ग्राफिकल रूप से दर्शाया जाता है। पैरामीटर सीधे डिवाइस पर सेट किए जाते हैं और पासवर्ड-सुरक्षित हैं।
विकल्प
यह विकल्प मानक उपकरण के अतिरिक्त उपलब्ध है:
 | रिमोट नियंत्रण विकल्प जटिल, बहु-चरण विकिरणन - उदाहरण के लिए कम विकिरण तीव्रता पर पूर्व-विकिरणन के बाद उच्च-तीव्रता वाला UVC विकिरणन - रिमोट नियंत्रण विकल्प के साथ पैरामीटरीकृत किए जा सकते हैं। 30 तक विकिरण मात्रा- या समय-नियंत्रित चरण और विराम संभव हैं। साथ ही विकिरणन को लॉग किया जाता है और पीसी पर संग्रहीत किया जाता है। |
ऑर्डर नंबर, डिलीवरी का दायरा, सहायक उपकरण और संस्करण
| वर्शन | ऑर्डर नंबर |
|---|---|
| BS-OX | 860950 |
185 nm पर यह चैंबर ओज़ोन उत्पन्न करता है और उससे सतहों को साफ करता है; 254 nm विकिरण अतिरिक्त रूप से सूक्ष्मजैविक भार को कम करता है। आपूर्ति के दायरे में BS-OX, UV-MAT, मेन्स केबल, मैनुअल और यूवीसी लैंप शामिल हैं - जब तक अन्यथा निर्दिष्ट न हो, ओज़ोन उत्पादक।
| वर्शन | ऑर्डर नंबर |
|---|---|
| UV-MAT Touch | 820930ox |
| UV-MAT | 820920ox |
कक्ष को UV-MAT द्वारा नियंत्रित किया जाता है - या तो ग्राफिक डिस्प्ले वाले UV-MAT के रूप में या 5-इंच टच डिस्प्ले और ऑसिलोस्कोप व्यू वाले UV-MAT Touch के रूप में। दोनों विकिरण तीव्रता को मापते हैं और विकिरण मात्रा नियंत्रण के अंतर्गत बंद हो जाते हैं।
| नाम | ऑर्डर नंबर |
|---|---|
| UV-MAT Touch के लिए पीसी सॉफ़्टवेयर | 860901 |
| नाम | ऑर्डर नंबर |
|---|---|
| curelog ONE विकिरण मात्रा मीटर | 680001C |
UVC संस्करण में curelog ONE कक्ष के भीतर विकिरण तीव्रता और विकिरण मात्रा दर्ज करता है। यह अपने आप में एक मापन यंत्र है जिसका अपना उत्पाद पृष्ठ है। लैंप की तीव्रता और जीर्णन की जांच के लिए हम इन कॉर्डलेस उपकरणों की अनुशंसा करते हैं: ये विकिरण तीव्रता दर्ज करते हैं और चक्रीय प्रक्रिया निगरानी के लिए उपयोग किए जा सकते हैं।
| सेवा | ऑर्डर नंबर |
|---|---|
| फैक्ट्री अंशांकन | 710000 |
| ISO 17025 अंशांकन | 17025 |
हमारी अपनी अंशांकन प्रयोगशाला में ISO/IEC 17025 के अनुसार मान्यता प्राप्त अंशांकन। अंशांकन फैक्ट्री अंशांकन और ISO 17025 अंशांकन के रूप में उपलब्ध हैं और PTB मानकों तक अनुरेखणीय हैं।
