דילוג לתוכן הראשי דילוג לכותרת התחתונה של העמוד
professional
photonics.

תאי הקשיה בקרינת UV LED: 110 עד 800 mW/cm²

ארבעה גדלים, חמישה אורכי גל, שלוש רמות הספק – סדרת BSL מכסה הכול, מהקשיה של דגימות במעבדה ועד הקשיה במנות של חלקים גדולים. בהשוואה לתאים עם מנורות פלואורסצנטיות מסדרת BS, עצמת הקרינה הנופלת גבוהה פי 14 עד 80; דקות הופכות לשניות.

הבחירה נעשית בשני שלבים: תחילה נקבע נפח התא הדרוש לחלק, ולאחר מכן רמת ההספק. להחלטה השנייה משקל רב יותר משנדמה – בין ECO ל-HO קיים הפרש של פי שניים בזמן החשיפה.

כל הארבעה הם תאי הקשיה בקרינת UV LED במובן המצומצם: הם מקרינים אזור דגימות סגור בעצמת קרינה נופלת ידועה ומסיימים את המחזור בהגעה למנת קרינה שנקבעה.

BSL-01i

תא UV-LED אינרטי עם שטיפה בגז מגן, בטווח 365 עד 450 nm, להקשיה ללא עיכוב חמצן.

BSL-02

תא UV-LED קומפקטי לתחום 365 עד 450 nm עם עצמת קרינה של עד 300 mW/cm² לדגימות קטנות.

BSL-03

תא UV LED בגודל בינוני לטווח 365 עד 450 nm עם גובה פנימי של 31 cm המתאים לדגימות גדולות יותר.

BSL-04

תא LED UV גדול לטווח 365 עד 450 nm עבור רכיבים ודגימות ייצור.

השוואה בין ארבעת הדגמים

דגם חלל פנימי (W × D × H) עצמת קרינה נופלת מקס. רמות הספק נצרך משקל למה מיועד
BSL-01i 20 × 20 × 20 cm 800 mW/cm² (450 nm) EcO+ · EcO · HO 200 עד 650 W ~ 20 kg הפעלה באווירה אינרטית עם חנקן, לוחית חימום וקירור, יחידה שולחנית
BSL-02 46 × 32 × 25 cm 300 mW/cm² (385 עד 405 nm) ECO · HO 600 עד 1200 W ~ 40 kg גודל תקני למעבדה ולסדרות קטנות
BSL-03 68 × 51 × 31 cm 220 mW/cm² (450 nm) ECO · HO 1000 עד 2000 W ~ 70 kg מגש דגימות מחליק 64 × 49 cm
BSL-04 86 × 64 × 28 cm 110 mW/cm² (450 nm) רמה אחת 1200 W ~ 80 kg השטח הגדול ביותר, הקשיה במנות

עצמת קרינה נופלת לפי אורך גל ורמה

דגם רמה 365 nm 385, 395, 405 nm 450 nm
BSL-01i EcO+ (גרסת בסיס) 100 mW/cm² 150 mW/cm² 200 mW/cm²
BSL-01i EcO 200 mW/cm² 300 mW/cm² 400 mW/cm²
BSL-01i HO 400 mW/cm² 600 mW/cm² 800 mW/cm²
BSL-02 ECO 100 mW/cm² 150 mW/cm² 125 mW/cm²
BSL-02 HO 200 mW/cm² 300 mW/cm² 250 mW/cm²
BSL-03 ECO 60 mW/cm² 100 mW/cm² 110 mW/cm²
BSL-03 HO 120 mW/cm² 200 mW/cm² 220 mW/cm²
BSL-04 רמה יחידה 60 mW/cm² 100 mW/cm² 110 mW/cm²

אורכי גל: 365 עד 450 nm, אופציונלית שניים בבקרה נפרדת

כל ארבעת התאים זמינים באורכי גל 365, 385, 395, 405 או 450 nm, אורך גל שיא ± 5 nm, FWHM 10 עד 20 nm. לפי דרישה מותקנים שני אורכי גל בבקרה נפרדת. במקרה כזה התא מאוכלס בחציו בכל אחד מסוגי ה-LED – ולכן לכל אורך גל זמינה מחצית מעצמת הקרינה הנופלת המופיעה בטבלה.

אורך הגל המתאים לדבק או לציפוי נקבע על ידי היוזם הפוטוכימי. 365 nm הוא התחום הקלאסי לאקרילטים, 385 עד 405 nm הוא תחום העבודה של מרבית דבקי ה-UV המודרניים, ו-450 nm מגיע גם לשכבות פיגמנטיות ועבות. הספקטרומים הנמדדים מצויים במסד הנתונים הספקטרלי.

HO מול ECO – ההחלטה שבאמת חשובה

על הגודל מחליטים במהירות: הוא נקבע לפי החלק. על דרגת ההספק לא – והיא עולה בכסף לשני הכיוונים.

  • HO מקצר את זמן החשיפה במחצית. בעצמת קרינה נופלת כפולה מושגת אותה מנת קרינה במחצית הזמן (H = E · t). מי שעובד לפי זמן מחזור צריך לחשב זאת בשניות לכל חלק על פני כל אורך החיים.
  • ECO מספיק היכן שהזמן אינו האילוץ. בניסויי מעבדה, בייצור דגימות ובהקשיה במשך הלילה, הספק כפול אינו קונה דבר שמחזיר את עלותו.
  • לחוק ההדדיות יש גבולות. בעצמת קרינה נופלת גבוהה מאוד ובציפויים המעוכבים על ידי חמצן, עצמת קרינה כפולה אינה נותנת מחצית הזמן. במקרה של ספק, מקומו של הדבר בניסוי – לא בהזמנה.

ב-BSL-01i גרסת הבסיס היא EcO+; את הדרגות EcO ו-HO ניתן להזמין כשדרוג. דגמי BSL-02 ו-BSL-03 מוצעים ב-ECO וב-HO, ודגם BSL-04 מגיע בדרגה אחת בלבד.

לעמודי הדגמים

  • BSL-01i – הפעלה אינרטית תחת חנקן, לוח חימום וקירור, עד 800 mW/cm²
  • BSL-02 – הגודל התקני, עד 300 mW/cm²
  • BSL-03 – מגש דגימות נשלף 64 × 49 cm, עד 220 mW/cm²
  • BSL-04 – השטח הגדול ביותר להקשיה במגשים, עד 110 mW/cm²

את אופן ההתפלגות של עצמת הקרינה הנופלת ושל מנת הקרינה בתוך התא ניתן לראות באמצעות סימולטור תא ה-UV עוד לפני הניסוי. התאים המסורתיים עם מנורות פלואורסצנטיות מופיעים תחת תאי הקרנה.

פרסומים המשתמשים בתאי ההקרנה עם UV LED

איננו מנהלים ביבליוגרפיה נפרדת עבור מכשיר בודד זה – פרסומים נוהגים לציין את משפחת המוצרים ולא את הדגם. להלן 10 העבודות האחרונות שבהן נעשה שימוש בתאי הקרנה UV.

כותרתמחבריםכתב עתשנה
Bacillus subtilis endospore integrity and viability on simulated Martian regolith in rotational UVC radiation exposuresDavis, G. M.; Horner, J.; Greenhill, A. R. et al.Life Sciences in Space Research2026
Erlotinib and Leflunomide Disrupt 6‐Formylindolo [3, 2‐b] Carbazole Metabolism and Sensitize Keratinocytes to UVA Radiation‐Induced ApoptosisHartung, F.; Dairou, J.; Ramamoorthy, S. et al.Photodermatology, Photoimmunology & Photomedicine2026
Estudo para remoção de ácido p-arsanílico em águas brutas e potáveis com a subsequente quantificação de as por cvg-mip oes——2026
High-Throughput Complex Disease Modeling for Ethical Drug Discovery: Clinical Relevance of a NAM Platform for Cancer Biomarker DevelopmentDillier, E.; Sousa, R.; Kluser, T. et al.Journal of Cancer Genetics And Biomarkers2026
Influence of Treated Surface Proportion on the Antibacterial Performance of UV-Activated Hydroxyapatite–Magnesium Phosphate–Zinc Oxide Coating on Magnesium AlloysTamurejo-Alonso, P.; Casares-López, J. M.; García-Galván, F. R. et al.Journal of Functional Biomaterials2026
Influence of UV irradiation on the skin-immune cell inflammatory responseMiceli, R.; Allen, N.; Jankowski, M. et al.—2026
Light-based footprinting of a eukaryotic genomeÖgren, L.; Muylaert, I.; Elliott, K. et al.Science Advances2026
MED20 biallelic pathogenic variants cause a neurodevelopmental disorder altering both transcription activity and Transcription-Coupled Repair pathwayMay, N. L.; Leconte, R.; Alberti, A. et al.—2026
Passivating Contacts-Related Ultraviolet-Induced Degradation in Silicon Heterojunction Solar CellsXu, B.; Alkhereibi, S.; Eberst, A. et al.Small Structures2026
Porous g-C₃N₄ with simultaneous carbon doping for photocatalytic water treatment and splittingSarifuddin, W. S.; Saman, F.; Mahadi, A. H. et al.Next Materials2026