ייצור מוסף
מדידה: עצמת קרינה נופלת (W/m²) על החלק, מנת קרינה בהקשיה שלאחר-ההדפסה
הדפסת תלת-מימד מבוססת-אור מקשה חלקים באמצעות פוטופולימריזציה מבוקרת מרחבית – ומגיעה למצב הסופי רק בהקשיה שלאחר-ההדפסה. המאמר מציג כיצד נמדדות החשיפה, ההקשיה שלאחר-ההדפסה והצללה על החלק.
אלקטרוניקה ומוליכים למחצה
גודל הנמדד: עצמת קרינה UVC ומנת קרינה במפלס הפרוסה (wafer) והרכיב
בייצור מוליכים למחצה ואלקטרוניקה משמשת קרינת UV לניקוי פוטוכימי ולהפעלה של משטחים וכן לחשיפת שכבות רגישות לקרינה. המאמר סוקר את שתי המשימות ואת הגדלים הנמדדים שלהן בשלב ה-back-end.
אריזה
גודל נמדד: מנת קרינת UVC בנקודה הפחות נוחה של האריזה
חיטוי UV של מכסים, פריפורמים ומשטחי ציוד מחליף תהליכים כימיים ותרמיים בקווי מילוי. המאמר מציג מדוע יש למדוד את מנת הקרינה בנקודה הפחות נוחה במהלך זמן המחזור.
אופטיקה
גודל נמדד: עצמת קרינה נופלת עם גיאומטריית מדידה מוגדרת, מנת קרינה UVC
ברכיבי דיוק אופטיים המשטח הוא הפונקציה. קרינת UV מסירה שכבות אורגניות, מפעילה זכוכית ופלסטיק ומקשה חיבורים – המאמר מציג כיצד מודדים ומתעדים זאת ללא מגע.
רכב
מדידה: פרופיל מנת קרינה לאורך המסלול, עצמת קרינה נופלת על החלק
בייצור רכבים, הקשיה בקרינת UV משמשת לצליבת דבקים, ציפויים ומרכבי איטום על חלקים תלת-ממדיים במרחקים וזוויות משתנים. המאמר מציג כיצד נמדדים פרופילי מנת קרינה בהובלת רובוט.
