Gå til hovedinnhold Gå til bunntekst
professional
photonics.

UV AOP-kammer BS-OX: fotokjemisk overflaterensing med 185 nm og ozon

BS-OX er et UV AOP-bestrålingskammer for fotokjemisk overflaterensing, ozonbehandling og målrettet modifisering av kontaktvinkel. Det fjerner organisk forurensning og øker overflateenergien før deler limes, belegges eller trykkes – uten våtkjemisk forbehandling. I en oksygenredusert atmosfære med typisk 1 % oksygen genererer 185 nm ozon og reaktive oksygenforbindelser som oksiderer rester; 254 nm dekker desinfeksjon og direkte fotolyse. Åtte UVC-lamper kan monteres ozonfrie, ozondannende eller i blandet konfigurasjon (4+4).

Fotokjemisk rensing og aktivering med 185 nm UVC i en oksygenredusert atmosfære fører til ozondannelse og generering av reaktive oksygenforbindelser. Disse oksiderer effektivt organiske forurensninger og øker overflateenergien. Dette resulterer i forbedret fuktbarhet og en reproduserbar reduksjon av kontaktvinkelen. Dette samspillet mellom 185 nm UVC, ozon og radikaler er en avansert oksidasjonsprosess (AOP) – derav navnet UV AOP-kammer.

Samtidig er UV-strålingen energirik nok til for eksempel å splitte organiske forbindelser.

185 nm-spekteret brukes til ozon- og radikaldannelse samt direkte fotolyse av organiske rester.

Den underliggende mekanismen er beskrevet i Overflaterensing og aktivering med UVC.

254 nm-bølgelengden muliggjør også klassiske UVC-prosesser som desinfeksjon og forbehandling for belegningsprosesser.

BS-OX kan driftes med 8 ozonfrie eller ozondannende UVC-lamper. En blandet konfigurasjon i forholdet 4+4 gir mulighet for valgfri drift med en ozonholdig eller ozonfri prosessatmosfære, og støtter dermed nøyaktig kontroll av rensing, oksidasjon og overflateaktivering.

Alle innvendige overflater er laget av ubelagte metaller og kvartsglass. Organiske belegg eller polymerbaserte beskyttelseslag er fullstendig utelatt. Dette betyr at det ikke oppstår nedbrytningsprodukter eller avgassing under bestråling med 185 nm/254 nm. Resultatet er et prosesskammer med stabile grensebetingelser for overflaterensing, ozonbehandling og reproduserbare endringer i kontaktvinkel.

BS-OX er utviklet for industrielle og vitenskapelige anvendelser der organiske restfilmer, fotoresistrester eller adsorbater begrenser funksjonaliteten til komponenter.

Bruksområder for AOP-kammer BS-OX

  • Aktivering av polymer-, glass-, keramikk- og metalloverflater før liming, forsegling eller belegging
  • Rensing av optiske komponenter, wafere, mikrobrikker og filtre med etterfølgende økning av det polare overflatearealet
  • Justering av kontaktvinkel og overflateenergi for mikrofluidikk, medisinsk teknologi og sensorteknologi
  • Sterilisering og nedbrytning av lukt- eller fargeaktive organiske forurensninger

Dobbel bestråling ved 185 nm og 254 nm gir en pålitelig nedbrytning av organiske rester gjennom fotolyse og etterfølgende ozon-/oksidasjons- og radikalreaksjoner.
Samtidig øker den polare andelen av overflaten, som definerer fuktbarheten og kontaktvinkelen.

Basert på den utprøvde BS-bestrålingskammerplattformen er det tilgjengelig et homogent, høytytende UVC-prøvekammer med generøse innvendige dimensjoner. Korte prosesstider, moderate prøvetemperaturer og flexible lampekonfigurasjoner kvalifiserer BS-OX som et robust system for forskning, utvikling og produksjon, spesielt innen halvleder- og optikkproduksjon samt i overflateforbehandling av moderne materialer.
 

Tekniske data for AOP-kammer BS-OX

Innvendig kammer 50 × 30 × 25 cm
Mål, kammer 81 × 59 × 63 cm
Mål, UV-MAT 19 × 25 × 10 cm
Vekt ~ 60 kg
Bestrålingstid 1 s til 999 dager
Effektforbruk 225 W
Nettstrømforsyning 230 VAC, 2 A
Driftstemperatur 10 til 40 °C
Fuktighet < 80 % ikke-kondenserende
Lampelevetid opptil 8 000 h
Antall lamper 8
Lampetype UVC, ozondannende; alternativt ozonfri
Lampeeffekt 20 W hver
Prøvetemperatur 25 °C ± 5 °C
Gassinntak / Gassutløp Festo QSK-G1/4-10 for 10 mm slangediameter
Avtrekksluft DN 100-kobling for korrugert metallslange og egnet avtrekksluftbehandling
Klassifisering Gruppe 0 i henhold til DIN EN 12198:2000

Ozon UVC-kammer: hva 185 nm behøves til

Et vanlig UVC-kammer arbeider på 254 nm og bryter bindinger. En ozon UVC-kammer legger til 185 nm – denne bølgelengden spalter atmosfærisk oksygen og genererer ozon inne i kammeret. Ozonet brytes deretter ned under 254 nm til atomært oksygen.

Bare denne kombinasjonen renser overflater ned til molekylært restnivå. Med 254 nm alene forblir den organiske filmen; med 185 nm alene mangler det andre steget.

Spektre for bestrålingskammeret BS-OX

Lampekonfigurasjonen avgjør prosessen. Den første figuren viser den ozondannende UVC-lampen: i tillegg til 254 nm sender den ut ved 185 nm, og denne linjen spalter oksygen til ozon og reaktive oksygenforbindelser. Den andre viser den ozonfrie lampen, der 185 nm mangler og kun direkte fotolyse ved 254 nm er virksom. Begge typer kan blandes (4+4) for å balansere oksidasjon mot fotolyse.

Ofte stilte spørsmål om ozon og avtrekksluft på BS-OX

Nei. Mens bestrålingen pågår, er døren til BS-OX låst. Når bestrålingen er avsluttet, frigis ikke døren umiddelbart: den integrerte skyllekontrollen utfører først den fastsatte skylle- og avtrekksfasen, og først deretter låses døren opp. Dette utelukker at kammeret åpnes rett etter ozonprosessen, slik at operatøren utsettes for ozon som fortsatt er til stede.

Regn med 5 minutter. Ozonkonsentrasjonen som faktisk gjenstår, avhenger av blanding, last og startkonsentrasjon og skal vurderes som del av operatørens risikovurdering.

Kontinuerlig måling av ozonkonsentrasjonen inne i det lukkede kammeret er ikke del av standard BS-OX. Konsentrasjonen som faktisk er til stede, avhenger av flere prosessparametere: lampekonfigurasjonen (ozondannende, ozonfri eller blandet 4+4), bestrålingstiden, oksygenkonsentrasjonen, luftstrømmen og oksidasjonsreaksjonene som finner sted inne i kammeret. I tillegg eldes oksygen- og ozonsensorer forholdsvis raskt og må kalibreres omtrent hver sjette måned – en fast installert måling skaper derfor et kontinuerlig vedlikeholdsbehov. I praksis oppnås reproduserbare resultater ved å holde prosessparameterne konstante.

BS-OX har en DN 100-tilkobling og er beregnet for tilkobling til egnet avtrekksluft eller avtrekksluftbehandling. En generelt gyldig minimums- eller maksimumsvolumstrøm i l/min kan ikke fastsettes på en meningsfull måte, fordi den avhenger av den enkelte installasjonen og av den tiltenkte prosessen. Som veiledende verdi for avtrekk kan man regne med ett kammervolum per minutt, det vil si omtrent 40 l/min eller 2,4 m³/h. Det som er avgjørende, er effektens retning: en høy kontinuerlig luftutskifting under bestrålingen reduserer ozonkonsentrasjonen inne i kammeret og svekker dermed prosessen, mens en høy volumstrøm er ønskelig under skyllefasen.

De to bestrålingskontrollene sammenlignet

Funksjon
UV-MAT Touch
UV-MAT Touch
UV-MAT
UV-MAT
Displaykapasitiv berøringsskjermmonokrom, 128 x 64 px
MinneUSB-minnepinne–
Tidsstyrte bestrålingerjaja
Registrering av målingerja–
Skjermbilder kan lagres på en USB-minnepinneja–
Pause og gjenoppstart av bestrålingerja–
Legge til notater og kommentarer til en bestrålingja–
Fjernstyring fra en PCja–
Bestrålingsjournalerpå en USB-minnepinnepå PC-en
Brukeradministrasjon og administratormodusja–
Enkle fastvareoppgraderingerjaja

Begge kontrollenhetene bruker de samme sensorene, slik at en sensor kan brukes med begge enhetene.

Skjermbilde av UV-MAT Touch: irradians, mål- og faktisk dose per lampegruppe, med gjenværende tid nedenfor

UV-MAT Touch betjenes via en høyoppløselig kapasitiv berøringsskjerm. En Cortex ARM-prosessor sørger for holdbarhet og oppdateringsmulighet - nye funksjoner kan installeres på stedet. Enheten og PC-programvaren er kompatible med Windows 10 og 11. Enkelt- og flerkanals bestrålinger vises numerisk og grafisk, sammen med oscillogrammer og innstillingene. Parametere angis direkte på enheten og er passordbeskyttet.

Alternativer

Dette alternativet er tilgjengelig i tillegg til standardutstyret:

Vindu i PC-programvaren: flertrinns bestråling med mål- og faktisk dose per trinn

Alternativ for fjernstyring

Komplekse, flertrinns bestrålinger - for eksempel en forbestråling ved lav irradians etterfulgt av en høyintensiv UVC-bestråling - kan parametreres med alternativet for fjernstyring. Opptil 30 dose- eller tidsstyrte trinn og pauser er mulig. Samtidig blir bestrålingen logget og lagret på PC-en.

Bestillingsnummer, leveringsomfang, tilbehør og versjoner

VersjonBestillingsnummer
BS-OX860950

Ved 185 nm genererer kammeret ozon og renser overflater med det; 254 nm-strålingen reduserer i tillegg mikrobiell belastning. Leveringsomfanget omfatter BS-OX, UV-MAT, nettkabel, bruksanvisningen og UVC-lamper - ozondannende med mindre annet er spesifisert.

VersjonOrdrenummer
UV-MAT Touch820930ox
UV-MAT820920ox

Kammeret styres av UV-MAT - enten som UV-MAT med grafisk display eller som UV-MAT Touch med en 5-tommers berøringsskjerm og oscilloskopvisning. Begge måler irradiansen og slår av under dosekontroll.

BetegnelseBestillingsnummer
PC-programvare for UV-MAT Touch860901

BetegnelseOrdrenummer
curelog ONE dosemåler680001C

curelog ONE i UVC-utførelsen registrerer irradians og dose inne i kammeret. Det er et selvstendig måleinstrument med egen produktside. For kontroll av lampeintensitet og aldring anbefaler vi disse batteridrevne instrumentene: de registrerer irradiansen og kan brukes til syklisk prosessovervåking.

TjenesteBestillingsnummer
Fabrikkalibrering710000
ISO 17025-kalibrering17025

Akkreditert kalibrering iht. ISO/IEC 17025 i vårt eget kalibreringslaboratorium. Kalibreringene er tilgjengelige som fabrikkalibrering og som ISO 17025-kalibrering og er metrologisk sporbare til PTB-standarder.

Publikasjoner som bruker UV-bestrålingskamre

Vi fører ikke en egen bibliografi for denne individuelle enheten – publikasjoner nevner vanligvis produktfamilien, ikke modellen. Her er de 10 nyeste arbeidene der UV-bestrålingskamre ble brukt.

TittelForfattereTidsskriftÅr
Bacillus subtilis endospore integrity and viability on simulated Martian regolith in rotational UVC radiation exposuresDavis, G. M.; Horner, J.; Greenhill, A. R. et al.Life Sciences in Space Research2026
Erlotinib and Leflunomide Disrupt 6‐Formylindolo [3, 2‐b] Carbazole Metabolism and Sensitize Keratinocytes to UVA Radiation‐Induced ApoptosisHartung, F.; Dairou, J.; Ramamoorthy, S. et al.Photodermatology, Photoimmunology & Photomedicine2026
Estudo para remoção de ácido p-arsanílico em águas brutas e potáveis com a subsequente quantificação de as por cvg-mip oes——2026
High-Throughput Complex Disease Modeling for Ethical Drug Discovery: Clinical Relevance of a NAM Platform for Cancer Biomarker DevelopmentDillier, E.; Sousa, R.; Kluser, T. et al.Journal of Cancer Genetics And Biomarkers2026
Influence of Treated Surface Proportion on the Antibacterial Performance of UV-Activated Hydroxyapatite–Magnesium Phosphate–Zinc Oxide Coating on Magnesium AlloysTamurejo-Alonso, P.; Casares-López, J. M.; García-Galván, F. R. et al.Journal of Functional Biomaterials2026
Influence of UV irradiation on the skin-immune cell inflammatory responseMiceli, R.; Allen, N.; Jankowski, M. et al.—2026
Light-based footprinting of a eukaryotic genomeÖgren, L.; Muylaert, I.; Elliott, K. et al.Science Advances2026
MED20 biallelic pathogenic variants cause a neurodevelopmental disorder altering both transcription activity and Transcription-Coupled Repair pathwayMay, N. L.; Leconte, R.; Alberti, A. et al.—2026
Passivating Contacts-Related Ultraviolet-Induced Degradation in Silicon Heterojunction Solar CellsXu, B.; Alkhereibi, S.; Eberst, A. et al.Small Structures2026
Porous g-C₃N₄ with simultaneous carbon doping for photocatalytic water treatment and splittingSarifuddin, W. S.; Saman, F.; Mahadi, A. H. et al.Next Materials2026