Naar de hoofdinhoud Naar de voettekst van de pagina
professional
photonics.

UV AOP-kamer BS-OX: fotochemische oppervlaktereiniging met 185 nm en ozon

De BS-OX is een UV AOP-bestralingskamer voor fotochemische oppervlaktereiniging, ozonbehandeling en gerichte aanpassing van de contacthoek. Ze verwijdert organische verontreiniging en verhoogt de oppervlakte-energie voordat onderdelen worden verlijmd, gecoat of bedrukt – zonder natchemische voorbehandeling. In een zuurstofarme atmosfeer met doorgaans 1 % zuurstof genereert 185 nm ozon en reactieve zuurstofverbindingen die resten oxideren; 254 nm dekt desinfectie en directe fotolyse. Acht UVC-lampen kunnen ozonvrij, ozonvormend of gemengd (4+4) worden geplaatst.

Fotochemische reiniging en activering met 185 nm UVC in een zuurstofarme atmosfeer leidt tot ozonvorming en de vorming van reactieve zuurstofverbindingen. Deze oxideren efficiënt organische verontreinigingen en verhogen de oppervlakte-energie. Dit resulteert in een verbeterde bevochtigbaarheid en een reproduceerbare verlaging van de contacthoek. Deze wisselwerking van 185 nm UVC, ozon en radicalen is een advanced oxidation process (AOP) – vandaar de naam UV AOP-kamer.

Tegelijkertijd is de UV-straling energetisch genoeg om bijvoorbeeld organische verbindingen te splitsen.

Het 185 nm-spectrum wordt gebruikt voor ozon- en radicaalvorming alsook directe fotolyse van organische resten.

Het onderliggende mechanisme wordt beschreven in Oppervlaktereiniging en -activering met UVC.

De golflengte van 254 nm maakt ook klassieke UVC-processen mogelijk, zoals desinfectie en voorbehandeling voor coatingprocessen.

De BS-OX kan werken met 8 ozonvrije of ozonvormende UVC-lampen. Een gemengde configuratie in een verhouding van 4+4 maakt optionele werking met een ozonhoudende of ozonvrije procesatmosfeer mogelijk en ondersteunt zo een nauwkeurige besturing van reiniging, oxidatie en oppervlakteactivering.

Alle inwendige oppervlakken zijn gemaakt van ongecoate metalen en kwartsglas. Organische coatings of op polymeren gebaseerde beschermlagen worden volledig achterwege gelaten. Dit betekent dat er geen afbraakproducten en geen uitgassing optreden onder bestraling met 185 nm/254 nm. Het resultaat is een proceskamer met stabiele randvoorwaarden voor oppervlaktereiniging, ozonbehandeling en reproduceerbare veranderingen van de contacthoek.

De BS-OX is ontworpen voor industriële en wetenschappelijke toepassingen waarbij organische restfilms, fotoresistresten of adsorbaten de functionaliteit van componenten beperken.

Toepassingsgebieden voor AOP-kamer BS-OX

  • Activering van polymeer-, glas-, keramiek- en metaaloppervlakken voorafgaand aan verlijming, afdichting of coating
  • Reiniging van optische componenten, wafers, microchips en filters met daaropvolgende toename van het polaire oppervlak
  • Instelling van contacthoek en oppervlakte-energie voor microfluïdica, medische technologie en sensortechnologie
  • Sterilisatie en afbraak van geur- of kleuractieve organische verontreinigingen

Dubbele bestraling bij 185 nm en 254 nm maakt een betrouwbare afbraak van organische residuen mogelijk door fotolyse en daaropvolgende ozon-/oxidatie- & radicaalreacties.
Tegelijkertijd neemt het polaire aandeel van het oppervlak toe, wat de bevochtigbaarheid en contacthoek bepaalt.

Op basis van het bewezen BS-bestralingskamerplatform is een homogene, krachtige UVC-monsterkamer met ruime interne afmetingen beschikbaar. Korte procestijden, gematigde monstertemperaturen en flexibele lampconfiguraties kwalificeren de BS-OX als een robuust systeem voor onderzoek, ontwikkeling en productie, met name in de halfgeleider- en optiekfabricage alsook bij de oppervlaktevoorbehandeling van moderne materialen.
 

Technische gegevens van AOP-kamer BS-OX

Binnenkamer 50 × 30 × 25 cm
Afmetingen, kamer 81 × 59 × 63 cm
Afmetingen, UV-MAT 19 × 25 × 10 cm
Gewicht ~ 60 kg
Bestralingstijd 1 s tot 999 dagen
Opgenomen vermogen 225 W
Netvoeding 230 VAC, 2 A
Bedrijfstemperatuur 10 tot 40 °C
Vochtigheid < 80% niet-condenserend
Levensduur van de lampen tot 8.000 h
Aantal lampen 8
Lamptype UVC, ozonvormend; optioneel ozonvrij
Lampvermogen elk 20 W
Monstertemperatuur 25 °C ± 5 °C
Gasinlaat / gasuitlaat Festo QSK-G1/4-10 voor slangdiameter van 10 mm
Afvoerlucht DN 100-aansluiting voor metalen golfslang en geschikte afvoerluchtbehandeling
Classificatie Groep 0 conform DIN EN 12198:2000

Ozon-UVC-kamer: waarvoor 185 nm nodig is

Een gewone UVC-kamer werkt op 254 nm en verbreekt bindingen. Een ozon-UVC-kamer voegt 185 nm toe – die golflengte splitst atmosferische zuurstof en genereert ozon binnen de kamer. De ozon vervalt vervolgens onder 254 nm tot atomaire zuurstof.

Alleen die combinatie reinigt oppervlakken tot op moleculair residu. Met alleen 254 nm blijft de organische film aanwezig; met alleen 185 nm ontbreekt de tweede stap.

Spectra van de bestralingskamer BS-OX

De lampconfiguratie bepaalt het proces. De eerste afbeelding toont de ozonvormende UVC-lamp: naast 254 nm straalt deze ook bij 185 nm, en die lijn splitst zuurstof in ozon en reactieve zuurstofverbindingen. De tweede toont de ozonvrije lamp, waarbij 185 nm ontbreekt en alleen directe fotolyse bij 254 nm werkzaam is. Beide types kunnen worden gemengd (4+4) om oxidatie tegen fotolyse in balans te brengen.

Veelgestelde vragen over ozon en afvoerlucht bij de BS-OX

Nee. Terwijl de bestraling loopt, is de deur van de BS-OX vergrendeld. Zodra de bestraling is beëindigd, wordt de deur niet meteen vrijgegeven: de geïntegreerde spoelbesturing voert eerst de voorgeschreven spoel- en afzuigfase uit en ontgrendelt de deur pas daarna. Hierdoor is het uitgesloten dat de kamer direct na het ozonproces wordt geopend, waarbij de operator wordt blootgesteld aan de nog aanwezige ozon.

Houd rekening met 5 minuten. De ozonconcentratie die daadwerkelijk overblijft, is afhankelijk van menging, belading en initiële concentratie en dient te worden beoordeeld als onderdeel van de risicobeoordeling van de operator.

Continue meting van de ozonconcentratie binnen de gesloten kamer maakt geen deel uit van de standaard BS-OX. De daadwerkelijk aanwezige concentratie is afhankelijk van verschillende procesparameters: de lampconfiguratie (ozonvormend, ozonvrij of gemengd 4+4), de bestralingstijd, de zuurstofconcentratie, de luchtstroom en de oxidatiereacties die binnen de kamer plaatsvinden. Daarnaast verouderen zuurstof- en ozonsensoren relatief snel en moeten ze ongeveer elke zes maanden worden gekalibreerd – een permanent geïnstalleerde meting brengt dus voortdurend onderhoud met zich mee. In de praktijk worden reproduceerbare resultaten bereikt door de procesparameters constant te houden.

De BS-OX heeft een DN 100-aansluiting en is bedoeld voor aansluiting op geschikte afvoerlucht of afvoerluchtbehandeling. Een algemeen geldige minimale of maximale volumestroom in l/min kan niet zinvol worden opgegeven, omdat dit afhankelijk is van de specifieke installatie en van het beoogde proces. Als richtwaarde voor de afzuiging kan worden uitgegaan van één kamervolume per minuut, dat is ongeveer 40 l/min of 2,4 m³/h. Bepalend is de richting van het effect: een hoge continue luchtuitwisseling tijdens de bestraling verlaagt de ozonconcentratie binnen de kamer en verzwakt daardoor het proces, terwijl een hoge volumestroom tijdens de spoelfase gewenst is.

De twee bestralingsregelingen vergeleken

Kenmerk
UV-MAT Touch
UV-MAT Touch
UV-MAT
UV-MAT
Displaycapacitief touchdisplaymonochroom, 128 x 64 px
GeheugenUSB-stick–
Tijdgestuurde bestralingenjaja
Registratie van meetwaardenja–
Schermafbeeldingen kunnen op een USB-stick worden opgeslagenja–
Bestralingen onderbreken en opnieuw startenja–
Notities en opmerkingen toevoegen aan een bestralingja–
Afstandsbediening vanaf een pcja–
Bestralingsgegevensop een USB-stickop de pc
Gebruikersbeheer en adminmodusja–
Eenvoudige firmware-updatesjaja

Beide besturingen gebruiken dezelfde sensoren, zodat één sensor met beide apparaten kan worden gebruikt.

Scherm van de UV-MAT Touch: bestralingssterkte, gewenste en actuele dosis per lampgroep, met de resterende tijd daaronder

De UV-MAT Touch wordt bediend via een hoge-resolutie capacitief touchscreen. Een Cortex ARM-processor zorgt voor duurzaamheid en updatemogelijkheden - nieuwe functies kunnen ter plaatse worden geïnstalleerd. Het apparaat en de pc-software zijn compatibel met Windows 10 en 11. Eenkanaals- en meerkanaalsbestralingen worden numeriek en grafisch weergegeven, samen met oscillogrammen en de instellingen. Parameters worden direct op het apparaat ingesteld en zijn met een wachtwoord beveiligd.

Opties

Deze optie is verkrijgbaar naast de standaarduitvoering:

Venster van de pc-software: meertraps bestraling met streef- en werkelijke dosis per stap

Optie afstandsbediening

Complexe, meertraps bestralingen - bijvoorbeeld een voorbestraling bij lage bestralingssterkte gevolgd door een UVC-bestraling met hoge intensiteit - kunnen met de optie afstandsbediening worden geparametreerd. Tot 30 dosis- of tijdgestuurde stappen en pauzes zijn mogelijk. Tegelijkertijd wordt de bestraling gelogd en op de pc opgeslagen.

Bestelnummers, leveringsomvang, accessoires en uitvoeringen

UitvoeringBestelnummer
BS-OX860950

Bij 185 nm genereert de kamer ozon en reinigt daarmee oppervlakken; de straling van 254 nm vermindert bovendien de microbiële belasting. De leveromvang omvat de BS-OX, de UV-MAT, de netvoedingskabel, de handleiding en UVC-lampen - ozonvormend, tenzij anders vermeld.

VersieBestelnummer
UV-MAT Touch820930ox
UV-MAT820920ox

De kamer wordt bestuurd door de UV-MAT - hetzij als de UV-MAT met een grafisch display, hetzij als de UV-MAT Touch met een 5-inch touchdisplay en oscilloscoopweergave. Beide meten de bestralingssterkte en schakelen uit onder dosisbewaking.

BenamingBestelnummer
PC-software voor de UV-MAT Touch860901

BenamingBestelnummer
curelog ONE dosismeter680001C

De curelog ONE in de UVC-versie registreert de bestralingssterkte en dosis binnen de kamer. Het is een volwaardig meetinstrument met zijn eigen productpagina. Voor het controleren van de lampintensiteit en veroudering raden wij deze snoerloze instrumenten aan: ze registreren de bestralingssterkte en kunnen worden gebruikt voor cyclische procesbewaking.

DienstBestelnummer
Fabriekskalibratie710000
ISO 17025-kalibratie17025

Geaccrediteerde kalibratie volgens ISO/IEC 17025 in ons eigen kalibratielaboratorium. De kalibraties zijn verkrijgbaar als fabriekskalibratie en als ISO 17025-kalibratie en zijn herleidbaar naar PTB-normalen.

Publicaties met UV-bestralingskamers

Wij houden voor dit specifieke apparaat geen aparte bibliografie bij – in publicaties wordt meestal de productfamilie genoemd, niet het model. Hieronder staan de 10 meest recente werken waarin UV-bestralingskamers werden gebruikt.

TitelAuteursTijdschriftJaar
Bacillus subtilis endospore integrity and viability on simulated Martian regolith in rotational UVC radiation exposuresDavis, G. M.; Horner, J.; Greenhill, A. R. et al.Life Sciences in Space Research2026
Erlotinib and Leflunomide Disrupt 6‐Formylindolo [3, 2‐b] Carbazole Metabolism and Sensitize Keratinocytes to UVA Radiation‐Induced ApoptosisHartung, F.; Dairou, J.; Ramamoorthy, S. et al.Photodermatology, Photoimmunology & Photomedicine2026
Estudo para remoção de ácido p-arsanílico em águas brutas e potáveis com a subsequente quantificação de as por cvg-mip oes——2026
High-Throughput Complex Disease Modeling for Ethical Drug Discovery: Clinical Relevance of a NAM Platform for Cancer Biomarker DevelopmentDillier, E.; Sousa, R.; Kluser, T. et al.Journal of Cancer Genetics And Biomarkers2026
Influence of Treated Surface Proportion on the Antibacterial Performance of UV-Activated Hydroxyapatite–Magnesium Phosphate–Zinc Oxide Coating on Magnesium AlloysTamurejo-Alonso, P.; Casares-López, J. M.; García-Galván, F. R. et al.Journal of Functional Biomaterials2026
Influence of UV irradiation on the skin-immune cell inflammatory responseMiceli, R.; Allen, N.; Jankowski, M. et al.—2026
Light-based footprinting of a eukaryotic genomeÖgren, L.; Muylaert, I.; Elliott, K. et al.Science Advances2026
MED20 biallelic pathogenic variants cause a neurodevelopmental disorder altering both transcription activity and Transcription-Coupled Repair pathwayMay, N. L.; Leconte, R.; Alberti, A. et al.—2026
Passivating Contacts-Related Ultraviolet-Induced Degradation in Silicon Heterojunction Solar CellsXu, B.; Alkhereibi, S.; Eberst, A. et al.Small Structures2026
Porous g-C₃N₄ with simultaneous carbon doping for photocatalytic water treatment and splittingSarifuddin, W. S.; Saman, F.; Mahadi, A. H. et al.Next Materials2026