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UV AOP 照射腔室 BS-OX:以 185 nm 與臭氧進行光化學表面清潔

BS-OX 是一款用於光化學表面清潔、臭氧處理及目標接觸角改質的 UV AOP 照射腔室。它能在零件進行黏接、塗佈或印刷之前,去除有機污染物並提升表面能,而無需濕式化學前處理。在典型含氧量 1 % 的低氧環境中,185 nm 會產生臭氧與活性氧物種以氧化殘留物;254 nm 則涵蓋消毒與直接光解。可依需求安裝 8 支 UVC 燈管,型式可為無臭氧型、產生臭氧型,或混合配置(4+4)。

在低氧環境中以 185 nm UVC 進行光化學清潔與活化,會產生臭氧並生成活性氧物種。這些物質能有效氧化有機污染物並提升表面能,從而改善潤濕性,並可重現地降低接觸角。185 nm UVC、臭氧與自由基之間的這種交互作用即為一種先進氧化程序(AOP)——這正是「UV AOP 照射腔室」名稱的由來。

同時,此紫外線輻射的能量足以分解有機化合物,例如。

185 nm 光譜可用於臭氧與自由基生成,以及有機殘留物的直接光解。

其背後機制說明於 以 UVC 進行表面清潔與活化。

254 nm 波長亦可用於典型的 UVC 製程,例如消毒與塗佈製程的前處理。

BS-OX 可搭配 8 支無臭氧型或產生臭氧型 UVC 燈管運作。以 4+4 比例混合配置時,可選擇於含臭氧或無臭氧的製程環境下運作,從而支援對清潔、氧化及表面活化的精確控制。

所有內部表面皆由未鍍層金屬與石英玻璃製成,完全不使用有機塗層或高分子基保護層。這表示在 185 nm/254 nm 照射下,不會產生降解產物,也不會出現逸氣現象。因此,此製程腔室能為表面清潔、臭氧處理及可重現的接觸角變化,提供穩定的邊界條件。

BS-OX 專為工業與科學應用而設計,適用於有機殘留薄膜、光阻殘留物或吸附物限制元件功能性的場合。

AOP 反應腔室 BS-OX 之應用領域

  • 於黏接、密封或塗層前,對聚合物、玻璃、陶瓷及金屬表面進行活化處理
  • 清潔光學元件、晶圓、微晶片及濾光片,並隨後提升其極性表面積
  • 調整微流體技術、醫療技術及感測器技術所需之接觸角與表面能
  • 對具氣味或色澤活性之有機污染物進行滅菌與分解

185 nm 與 254 nm 雙波長輻射照射,透過光解作用及後續產生的臭氧/氧化作用與自由基反應,可有效分解有機殘留物。
同時,表面極性部分會增加,從而決定了濕潤性與接觸角。

基於經過驗證的 BS 照射腔室平台,本公司提供具有寬敞內部空間的均勻、高效能 UVC 樣品腔室。短暫的處理時間、適中的樣品溫度,以及靈活的燈管配置,使 BS-OX 成為研究、開發與生產中的穩健系統,特別適用於半導體與光學製造,以及現代材料的表面前處理。
 

AOP 照射腔室 BS-OX 技術資料

內部腔室 50 × 30 × 25 cm
尺寸,腔室 81 × 59 × 63 cm
尺寸,UV-MAT 19 × 25 × 10 cm
重量 ~ 60 kg
照射時間 1 s 至 999 天
消耗功率 225 W
市電電源 230 VAC, 2 A
操作溫度 10 至 40 °C
濕度 < 80% 不凝結
燈管壽命 最高 8,000 h
燈管數量 8
燈管類型 UVC,產生臭氧型;亦可選用無臭氧型
燈管功率 各 20 W
樣品溫度 25 °C ± 5 °C
氣體入口 / 氣體出口 Festo QSK-G1/4-10,適用於 10 mm 軟管直徑
排氣 DN 100 接頭,適用於金屬波紋軟管及合適的排氣處理裝置
分類 依據 DIN EN 12198:2000 之 Group 0

臭氧型 UVC 照射腔室:185 nm 的作用所在

一般 UVC 照射腔室以 254 nm 運作,可切斷化學鍵。臭氧型 UVC 照射腔室則額外加入 185 nm——此波長能分解大氣中的氧氣,並在腔室內產生臭氧。臭氧接著在 254 nm 的作用下分解為原子氧。

唯有這樣的組合,才能將表面清潔至分子殘留物的程度。若僅使用 254 nm,有機薄膜仍會殘留;若僅使用 185 nm,則缺少後續步驟。

照射腔室 BS-OX 之光譜

燈管配置決定了製程。第一張圖顯示產生臭氧型 UVC 燈管:除 254 nm 外,其亦於 185 nm 處發光,而該波長會將氧氣分解為臭氧與活性氧物種。第二張圖顯示無臭氧型燈管,其缺少 185 nm,僅有 254 nm 處之直接光解作用。兩種類型可混合搭配(4+4),以平衡氧化作用與光解作用。

BS-OX 臭氧與排氣常見問題

不可以。在照射進行期間,BS-OX 的門會保持鎖定。照射結束後,門並不會立即釋放:內建的排氣控制系統會先執行規定的排氣與抽取階段,之後才會解鎖門。這樣可避免操作人員在臭氧程序結束後立即打開照射腔室,暴露於仍殘留的臭氧中。

請預留 5 分鐘。實際殘留的臭氧濃度取決於混合情況、負載及初始濃度,應作為操作人員風險評估的一部分加以評估。

在密閉照射腔室內連續量測臭氧濃度並非標準 BS-OX 的功能。實際存在的濃度取決於多項程序參數:燈管配置(產生臭氧型、無臭氧型或混合式 4+4)、照射時間、氧氣濃度、氣流以及照射腔室內發生的氧化反應。此外,氧氣與臭氧感測器老化速度相對較快,約每 6 個月須校正一次──因此永久安裝的量測裝置會產生持續的維護負擔。實務上,藉由保持程序參數恆定即可獲得可重現的結果。

BS-OX 具有 DN 100 接頭,設計用於連接至適當的排氣或排氣處理設備。由於實際情況取決於個別安裝方式及預定的程序,因此無法給出一個普遍適用的最小或最大體積流量(以 l/min 表示)。作為抽取的參考值,可假設每分鐘抽取一個照射腔室容積,約為 40 l/min 或 2.4 m³/h。重要的是效應的方向:照射期間持續的高換氣量會降低照射腔室內的臭氧濃度,從而削弱程序效果;而在排氣階段則希望有較高的體積流量。

兩種輻射照射控制方式比較

功能
UV-MAT Touch
UV-MAT Touch
UV-MAT
UV-MAT
顯示器電容式觸控顯示器單色,128 x 64 px
記憶體USB 隨身碟–
定時控制照射是是
量測值記錄是–
螢幕截圖可儲存至 USB 隨身碟是–
暫停與重新啟動照射是–
為照射作業新增註記與備註是–
透過電腦遠端控制是–
照射記錄儲存於 USB 隨身碟儲存於電腦
使用者管理與管理員模式是–
簡易韌體升級是是

兩款控制器皆使用相同的感測器,因此同一個感測器可搭配任一裝置使用。

UV-MAT Touch 螢幕畫面:輻照度、每個燈管群組的目標與實際劑量,下方顯示剩餘時間

UV-MAT Touch 透過高解析度電容式觸控螢幕操作。Cortex ARM 處理器提供了耐用性與可更新的能力——新功能可在現場安裝。此裝置與 PC 軟體皆與 Windows 10 及 11 相容。單通道與多通道照射會以數字及圖形方式顯示,並同時顯示振盪圖與設定值。參數可直接在裝置上設定,並受密碼保護。

選項

此選配項目為標準配備之外的附加功能:

PC 軟體視窗:多階段照射,包含每個步驟的目標與實際劑量

遠端控制選配

複雜的多階段照射作業——例如先以低輻照度進行預照射,接著再進行高強度 UVC 照射——可透過遠端控制選配進行參數設定。最多可設定 30 個劑量或時間控制的步驟與暫停。同時,照射過程會被記錄並儲存於電腦上。

訂購型號、供貨範圍、配件及版本

版本訂購編號
BS-OX860950

此腔室在 185 nm 波長下產生臭氧並用以清潔表面;254 nm 輻射則能進一步降低微生物負載。交貨範圍包含 BS-OX、UV-MAT、市電電源線、操作手冊,以及紫外線 C 燈管(除另有說明外,均為產生臭氧型)。

版本訂購號碼
UV-MAT Touch820930ox
UV-MAT820920ox

該腔室由 UV-MAT 控制 - 可選擇配備圖形顯示幕的 UV-MAT,或配備 5 英吋觸控顯示幕與示波器檢視功能的 UV-MAT Touch。兩者皆可量測輻照度,並依劑量控制自動關閉。

名稱訂購號
UV-MAT Touch 電腦軟體860901

名稱訂購編號
curelog ONE 劑量計680001C

UVC 版本的 curelog ONE 可記錄照射腔室內的輻照度與劑量。它本身即是一款獨立的量測裝置,並擁有專屬的產品頁面。若要檢查燈管強度與老化情形,本公司建議使用這些無線儀器:它們可記錄輻照度,並可用於週期性製程監控。

服務項目訂購編號
原廠校正710000
ISO 17025 校正17025

於本公司自有校正實驗室提供符合 ISO/IEC 17025 之認證校正服務。校正服務可選擇原廠校正或 ISO 17025 校正,並具備可追溯至 PTB 標準之計量溯源性。

使用紫外線照射腔室的相關文獻

本公司並未針對此單一裝置維護獨立的參考文獻清單——相關文獻通常僅標示產品系列名稱,而非特定型號。以下列出使用紫外線照射腔室的 10 篇最新文獻。

標題作者期刊年份
Bacillus subtilis endospore integrity and viability on simulated Martian regolith in rotational UVC radiation exposuresDavis, G. M.; Horner, J.; Greenhill, A. R. et al.Life Sciences in Space Research2026
Erlotinib and Leflunomide Disrupt 6‐Formylindolo [3, 2‐b] Carbazole Metabolism and Sensitize Keratinocytes to UVA Radiation‐Induced ApoptosisHartung, F.; Dairou, J.; Ramamoorthy, S. et al.Photodermatology, Photoimmunology & Photomedicine2026
Estudo para remoção de ácido p-arsanílico em águas brutas e potáveis com a subsequente quantificação de as por cvg-mip oes——2026
High-Throughput Complex Disease Modeling for Ethical Drug Discovery: Clinical Relevance of a NAM Platform for Cancer Biomarker DevelopmentDillier, E.; Sousa, R.; Kluser, T. et al.Journal of Cancer Genetics And Biomarkers2026
Influence of Treated Surface Proportion on the Antibacterial Performance of UV-Activated Hydroxyapatite–Magnesium Phosphate–Zinc Oxide Coating on Magnesium AlloysTamurejo-Alonso, P.; Casares-López, J. M.; García-Galván, F. R. et al.Journal of Functional Biomaterials2026
Influence of UV irradiation on the skin-immune cell inflammatory responseMiceli, R.; Allen, N.; Jankowski, M. et al.—2026
Light-based footprinting of a eukaryotic genomeÖgren, L.; Muylaert, I.; Elliott, K. et al.Science Advances2026
MED20 biallelic pathogenic variants cause a neurodevelopmental disorder altering both transcription activity and Transcription-Coupled Repair pathwayMay, N. L.; Leconte, R.; Alberti, A. et al.—2026
Passivating Contacts-Related Ultraviolet-Induced Degradation in Silicon Heterojunction Solar CellsXu, B.; Alkhereibi, S.; Eberst, A. et al.Small Structures2026
Porous g-C₃N₄ with simultaneous carbon doping for photocatalytic water treatment and splittingSarifuddin, W. S.; Saman, F.; Mahadi, A. H. et al.Next Materials2026