Ana içeriğe geç Sayfa altbilgisine geç
professional
photonics.

BS-OX UV AOP kabini: 185 nm ve ozon ile fotokimyasal yüzey temizliği

BS-OX, fotokimyasal yüzey temizliği, ozon işlemi ve hedeflenen kontak açısı değişimi için bir UV AOP ışınlama kabinidir. Parçalar yapıştırılmadan, kaplanmadan veya baskı yapılmadan önce organik kirlenmeyi giderir ve yüzey enerjisini yükseltir – yaş kimyasal ön işlem gerektirmeden. Tipik olarak %1 oksijen içeren oksijeni azaltılmış bir atmosferde, 185 nm kalıntıları oksitleyen ozon ve reaktif oksijen türleri üretir; 254 nm ise dezenfeksiyon ve direkt fotolizi kapsar. Sekiz UVC lambası ozonsuz, ozon üreten veya karma (4+4) olarak takılabilir.

Oksijeni azaltılmış bir atmosferde 185 nm UVC ile fotokimyasal temizlik ve aktivasyon, ozon oluşumuna ve reaktif oksijen türlerinin üretilmesine yol açar. Bunlar organik kirleticileri etkin şekilde oksitler ve yüzey enerjisini artırır. Bu durum, ıslanabilirliğin iyileşmesi ve kontak açısında tekrarlanabilir bir azalma ile sonuçlanır. 185 nm UVC, ozon ve radikallerin bu etkileşimi bir ileri oksidasyon prosesidir (AOP) – bu nedenle UV AOP kabini adı verilmiştir.

Aynı zamanda UV radyasyonu, örneğin organik bileşikleri parçalayacak kadar enerjiktir.

185 nm spektrumu, ozon ve radikal oluşumu ile organik kalıntıların direkt fotolizi için kullanılır.

Bu mekanizmanın ayrıntıları UVC ile Yüzey Temizliği ve Aktivasyonu sayfasında açıklanmaktadır.

254 nm dalga boyu ayrıca dezenfeksiyon ve kaplama işlemleri için ön işlem gibi klasik UVC proseslerini de mümkün kılar.

BS-OX, 8 ozonsuz veya ozon üreten UVC lambasıyla çalışabilir. 4+4 oranındaki karma bir konfigürasyon, ozon içeren veya ozonsuz bir proses atmosferiyle isteğe bağlı çalışmaya olanak tanır ve böylece temizlik, oksidasyon ve yüzey aktivasyonunun hassas kontrolünü destekler.

Tüm iç yüzeyler kaplamasız metallerden ve kuvars camdan üretilmiştir. Organik kaplamalardan veya polimer bazlı koruyucu tabakalardan tamamen vazgeçilmiştir. Bu, 185 nm/254 nm ışınlama altında bozunma ürünü oluşmadığı ve gaz çıkışı olmadığı anlamına gelir. Sonuç olarak yüzey temizliği, ozon işlemi ve tekrarlanabilir kontak açısı değişimleri için kararlı sınır koşullarına sahip bir proses kabini ortaya çıkar.

BS-OX, organik kalıntı filmlerin, fotorezist kalıntılarının veya adsorbatların bileşenlerin işlevselliğini sınırladığı endüstriyel ve bilimsel uygulamalar için tasarlanmıştır.

AOP kabini BS-OX için uygulama alanları

  • Yapıştırma, sızdırmazlık veya kaplama öncesinde polimer, cam, seramik ve metal yüzeylerin aktivasyonu
  • Optik bileşenlerin, wafer'lerin, mikroçiplerin ve filtrelerin temizlenmesi ve ardından polar yüzey alanının artırılması
  • Mikroakışkan sistemler, tıbbi teknoloji ve sensör teknolojisi için kontak açısının ve yüzey enerjisinin ayarlanması
  • Koku veya renk aktif organik kirleticilerin sterilizasyonu ve parçalanması

185 nm ve 254 nm'de çift ışınlama, fotoliz ve devamındaki ozon/oksidasyon & radikal reaksiyonları sayesinde organik kalıntıların güvenilir şekilde parçalanmasını sağlar.
Aynı zamanda, yüzeyin polar kısmı artar, bu da ıslanabilirliği ve kontak açısını belirler.

Kanıtlanmış BS ışınlama kabini platformuna dayanan, geniş iç ölçülere sahip homojen, yüksek performanslı bir UVC numune haznesi sunulmaktadır. Kısa proses süreleri, ölçülü numune sıcaklıkları ve esnek lamba konfigürasyonları, BS-OX'u özellikle yarı iletken ve optik üretiminde ve modern malzemelerin yüzey ön işleminde araştırma, geliştirme ve üretim için sağlam bir sistem olarak nitelendirmektedir.
 

BS-OX AOP kabini teknik verileri

İç hazne 50 × 30 × 25 cm
Boyutlar, hazne 81 × 59 × 63 cm
Boyutlar, UV-MAT 19 × 25 × 10 cm
Ağırlık ~ 60 kg
Işınlama süresi 1 s ila 999 gün
Güç tüketimi 225 W
Şebeke beslemesi 230 VAC, 2 A
Çalışma sıcaklığı 10 ila 40 °C
Nem %80'den düşük, yoğuşmasız
Lamba ömrü 8.000 h'ye kadar
Lamba sayısı 8
Lamba tipi UVC, ozon üreten; alternatif olarak ozonsuz
Lamba gücü Her biri 20 W
Numune sıcaklığı 25 °C ± 5 °C
Gaz girişi / Gaz çıkışı 10 mm hortum çapı için Festo QSK-G1/4-10
Egzoz havası Oluklu metal hortum ve uygun egzoz havası arıtması için DN 100 konnektör
Sınıflandırma DIN EN 12198:2000'e göre Grup 0

Ozon UVC kabini: 185 nm ne için gereklidir

Standart bir UVC kabini 254 nm'de çalışır ve bağları kırar. Bir ozon UVC kabini ise buna 185 nm'yi ekler – bu dalga boyu atmosferik oksijeni ayrıştırır ve kabin içinde ozon üretir. Ozon daha sonra 254 nm altında atomik oksijene dönüşerek parçalanır.

Sadece bu kombinasyon yüzeyleri moleküler kalıntı seviyesine kadar temizler. Yalnızca 254 nm kullanıldığında organik film kalır; yalnızca 185 nm kullanıldığında ise ikinci adım eksik kalır.

BS-OX Işınlama Kabininin Spektrumları

Lamba konfigürasyonu prosesi belirler. İlk şekil ozon üreten UVC lambasını göstermektedir: 254 nm'nin yanı sıra 185 nm'de de ışıma yapar ve bu hat oksijeni ozon ve reaktif oksijen türlerine ayırır. İkinci şekil ozonsuz lambayı göstermektedir; burada 185 nm eksiktir ve yalnızca 254 nm'de doğrudan fotoliz etkilidir. Oksidasyon ile fotolizi dengelemek için her iki tip karıştırılabilir (4+4).

BS-OX'te ozon ve egzoz havası hakkında sık sorulan sorular

Hayır. Işınlama sürerken BS-OX'un kapısı kilitlidir. Işınlama sona erdiğinde kapı hemen serbest bırakılmaz: entegre tahliye kontrolü önce belirlenen tahliye ve emme aşamasını gerçekleştirir ve ancak bundan sonra kapıyı açar. Bu sayede haznenin ozon işleminden hemen sonra açılması ve operatörün ortamda kalan ozona maruz kalması önlenir.

5 dakika hesaplayınız. Fiilen kalan ozon konsantrasyonu karışıma, yüke ve başlangıç konsantrasyonuna bağlıdır ve operatörün risk değerlendirmesi kapsamında değerlendirilmelidir.

Kapalı hazne içindeki ozon konsantrasyonunun sürekli ölçümü, standart BS-OX'un bir parçası değildir. Fiilen mevcut olan konsantrasyon birçok proses parametresine bağlıdır: lamba yapılandırması (ozon üreten, ozonsuz veya karma 4+4), ışınlama süresi, oksijen konsantrasyonu, hava akışı ve hazne içinde meydana gelen oksidasyon reaksiyonları. Ayrıca oksijen ve ozon sensörleri nispeten hızlı yaşlanır ve yaklaşık her altı ayda bir kalibre edilmesi gerekir – bu nedenle kalıcı olarak kurulmuş bir ölçüm sürekli bakım gerektirir. Uygulamada, proses parametrelerini sabit tutarak tekrarlanabilir sonuçlar elde edilir.

BS-OX, DN 100 bağlantısına sahiptir ve uygun egzoz havasına veya egzoz havası arıtmasına bağlanmak üzere tasarlanmıştır. l/dk cinsinden genel geçerliliği olan bir minimum veya maksimum hacimsel akış anlamlı bir şekilde belirtilemez, çünkü bu, ilgili kuruluma ve öngörülen işleme bağlıdır. Emme için bir kılavuz değer olarak, dakikada bir hazne hacmini esas alınız; bu, yaklaşık 40 l/dk veya 2,4 m³/h'e karşılık gelir. Önemli olan etkinin yönüdür: ışınlama sırasında yüksek sürekli hava değişimi, hazne içindeki ozon konsantrasyonunu düşürür ve böylece işlemi zayıflatır; buna karşın tahliye aşamasında yüksek bir hacimsel akış istenen bir durumdur.

İki ışınlama kontrolünün karşılaştırılması

Özellik
UV-MAT Touch
UV-MAT Touch
UV-MAT
UV-MAT
Ekrankapasitif dokunmatik ekranmonokrom, 128 x 64 px
BellekUSB bellek–
Zaman kontrollü ışınlamalarevetevet
Ölçümlerin kaydedilmesievet–
Ekran görüntüleri USB belleğe kaydedilebilirevet–
Işınlamaların durdurulup yeniden başlatılmasıevet–
Bir ışınlamaya not ve yorum eklenmesievet–
PC üzerinden uzaktan kumandaevet–
Işınlama kayıtlarıUSB bellektePC'de
Kullanıcı yönetimi ve yönetici moduevet–
Kolay ürün yazılımı güncellemelerievetevet

Her iki kumanda birimi de aynı sensörleri kullanır, bu nedenle bir sensör her iki cihazla da kullanılabilir.

UV-MAT Touch ekranı: her lamba grubu için irradyans, hedef ve gerçek doz, altında kalan süre ile birlikte

UV-MAT Touch, yüksek çözünürlüklü kapasitif dokunmatik ekran üzerinden çalıştırılır. Bir Cortex ARM işlemci dayanıklılık ve güncelleme yeteneği sağlar - yeni fonksiyonlar sahada kurulabilir. Cihaz ve PC yazılımı Windows 10 ve 11 ile uyumludur. Tek kanallı ve çok kanallı ışınlamalar, osilogramlar ve ayarlarla birlikte sayısal ve grafiksel olarak gösterilir. Parametreler doğrudan cihaz üzerinde ayarlanır ve parola ile korunur.

Seçenekler

Bu opsiyon, standart donanıma ek olarak sunulmaktadır:

PC yazılımının penceresi: adım başına hedef ve gerçek doz ile çok kademeli ışınlama

Uzaktan kumanda opsiyonu

Örneğin düşük ışınım yoğunluğunda bir ön ışınlamayı takiben yüksek yoğunluklu bir UVC ışınlaması gibi karmaşık, çok kademeli ışınlamalar, uzaktan kumanda opsiyonu ile parametrelendirilebilir. Doz veya süre kontrollü olarak 30'a kadar adım ve duraklama mümkündür. Aynı zamanda ışınlama kaydedilir ve PC'de saklanır.

Sipariş numaraları, teslimat kapsamı, aksesuarlar ve versiyonlar

VersiyonSipariş numarası
BS-OX860950

Kabin, 185 nm'de ozon üretir ve yüzeyleri bu ozonla temizler; 254 nm ışınım ise ayrıca mikrobiyal yükü azaltır. Teslimat kapsamına BS-OX, UV-MAT, şebeke kablosu, kullanım kılavuzu ve başka türlü belirtilmedikçe ozon üreten UVC lambaları dahildir.

VersiyonSipariş numarası
UV-MAT Touch820930ox
UV-MAT820920ox

Kabin, UV-MAT tarafından kontrol edilir - grafik ekranlı UV-MAT olarak veya 5 inç dokunmatik ekranlı ve osiloskop görünümlü UV-MAT Touch olarak. Her ikisi de irradyansı ölçer ve doz kontrolü altında kapanır.

TanımSipariş numarası
UV-MAT Touch için PC yazılımı860901

TanımSipariş numarası
curelog ONE doz metre680001C

UVC versiyonundaki curelog ONE, kabin içindeki irradyansı ve dozu kaydeder. Kendi ürün sayfası olan, kendi başına bir ölçüm cihazıdır. Lamba yoğunluğunun ve yaşlanmasının kontrolü için kablosuz bu cihazları öneriyoruz: irradyansı kaydederler ve döngüsel proses izlemede kullanılabilirler.

HizmetSipariş numarası
Fabrika kalibrasyonu710000
ISO 17025 kalibrasyonu17025

Kendi kalibrasyon laboratuvarımızda ISO/IEC 17025'e göre akredite kalibrasyon. Kalibrasyonlar fabrika kalibrasyonu ve ISO 17025 kalibrasyonu olarak sunulmaktadır ve PTB standartlarına izlenebilirdir.

UV ışınlama kabinlerinin kullanıldığı yayınlar

Bu münferit cihaz için ayrı bir kaynakça tutulmamaktadır - yayınlarda genellikle ürün ailesi belirtilir, model değil. Burada UV ışınlama kabinlerinin kullanıldığı en güncel 10 çalışma listelenmiştir.

BaşlıkYazarlarDergiYıl
Bacillus subtilis endospore integrity and viability on simulated Martian regolith in rotational UVC radiation exposuresDavis, G. M.; Horner, J.; Greenhill, A. R. et al.Life Sciences in Space Research2026
Erlotinib and Leflunomide Disrupt 6‐Formylindolo [3, 2‐b] Carbazole Metabolism and Sensitize Keratinocytes to UVA Radiation‐Induced ApoptosisHartung, F.; Dairou, J.; Ramamoorthy, S. et al.Photodermatology, Photoimmunology & Photomedicine2026
Estudo para remoção de ácido p-arsanílico em águas brutas e potáveis com a subsequente quantificação de as por cvg-mip oes——2026
High-Throughput Complex Disease Modeling for Ethical Drug Discovery: Clinical Relevance of a NAM Platform for Cancer Biomarker DevelopmentDillier, E.; Sousa, R.; Kluser, T. et al.Journal of Cancer Genetics And Biomarkers2026
Influence of Treated Surface Proportion on the Antibacterial Performance of UV-Activated Hydroxyapatite–Magnesium Phosphate–Zinc Oxide Coating on Magnesium AlloysTamurejo-Alonso, P.; Casares-López, J. M.; García-Galván, F. R. et al.Journal of Functional Biomaterials2026
Influence of UV irradiation on the skin-immune cell inflammatory responseMiceli, R.; Allen, N.; Jankowski, M. et al.—2026
Light-based footprinting of a eukaryotic genomeÖgren, L.; Muylaert, I.; Elliott, K. et al.Science Advances2026
MED20 biallelic pathogenic variants cause a neurodevelopmental disorder altering both transcription activity and Transcription-Coupled Repair pathwayMay, N. L.; Leconte, R.; Alberti, A. et al.—2026
Passivating Contacts-Related Ultraviolet-Induced Degradation in Silicon Heterojunction Solar CellsXu, B.; Alkhereibi, S.; Eberst, A. et al.Small Structures2026
Porous g-C₃N₄ with simultaneous carbon doping for photocatalytic water treatment and splittingSarifuddin, W. S.; Saman, F.; Mahadi, A. H. et al.Next Materials2026