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什麼是紫外線輻射?

紫外線輻射是波長短於可見光的電磁輻射。根據國際照明術語(CIE S 017/E:2020),其分為 UV-A(315 至 400 nm)、UV-B(280 至 315 nm)及 UV-C(100 至 280 nm)。人眼無法看見此輻射,僅能透過輻射計或光譜輻射計進行量測。

縮寫「UV」代表紫外線輻射(ultraviolet radiation)。此輻射常被稱為 UV 光,因為「光」一詞聽起來通常比「輻射」不那麼危險。然而,依定義而言,人眼可見的輻射才稱為光,因此嚴格來說,UV 光其實並不存在。這對使用者而言是重要的事實,因為使用者無法感知其真正的危險性。可能可見的光僅是由紫外線所誘發的發光現象(luminescence),這種發光現象通常遠比誘發它的紫外線輻射微弱且不具危險性。因此,量測紫外線輻射十分重要,此時可使用本公司的精密紫外線輻射計。

UV-A、UV-B 及 UV-C 光譜範圍

紫外線輻射分為三個光譜範圍。UVA 涵蓋 315 nm 至 400 nm 的光譜範圍;在美國的資料來源中,320~400 nm 的光譜範圍亦被稱為 UVA。UVA 光譜範圍在技術上常用於紫外線黏接及塗料固化。此外,發光現象與螢光測試通常也使用 UVA 進行(此處以黑光燈(black light)一詞定義)。

名稱 依照 ILV(CIE S 017/E:2020)之光譜範圍
UV-A 315 至 400 nm
UV-B 280 至 315 nm
UV-C 100 至 280 nm(實際上為 200 至 280 nm)
真空紫外線 100 至 200 nm
可見輻射 下限:介於 360 nm 至 400 nm 之間*
  上限:介於 760 nm 至 830 nm 之間*
IR-A 780 至 1400 nm
IR-B 1400 至 3000 nm
IR-C 3000 nm 至 1 mm

* 可見輻射的界限並非明確劃分,因為人眼的敏感度在兩端都是逐漸消退的。根據 CIE S 017/E:2020,下限一般介於 360 nm 至 400 nm 之間,上限則介於 760 nm 至 830 nm 之間。實務上通常採用 380 nm 至 780 nm。

380 至 400 nm 的範圍因此同時屬於 UV-A 與可見輻射。這並非錯誤,而是源自兩種不同的參考量:UV 範圍是以波長來定義,可見輻射則是以人眼的敏感度來定義──而這種敏感度並非驟然中止。

接著,在短波範圍中,還有 UVB 光譜範圍。UVB 輻射比 UVA 輻射具有更高的能量,若曝露時間較長,可能導致皮膚損傷。就技術而言,UVB 輻射的使用頻率不如 UVA 或 UVC 輻射,但其在光穩定性中扮演重要角色,亦即在 紫外線老化 或風化作用中,因為自然日光中含有少量的 UVB 輻射。

UVC 輻射是介於 100 nm 至 280 nm 之間的輻射。由於空氣會吸收約 200 nm 以下的 UVC 輻射,此波長常被視為下限波長。UVC 輻射可透過低壓水銀燈有效產生,其紫外線輻射產率最高可達約 40 %,電力功率範圍為數百 W。主要發射波長約為 254 nm。其重要應用包括表面消毒、食品包裝消毒以及飲用水消毒。至於紫外線聚合作用,電力功率介於約 400 W 至 24 kW 之間的中壓水銀燈則被廣泛使用。在此,高功率可實現高速運作,並在極短時間內完成製程。

以互動方式放置波長

以下探索工具可將 150 至 800 nm 之間的任意波長放置於上述範圍中,並提供頻率、光子能量及波數,同時列出典型光源與相對應的量測設備。

下圖顯示不同種類電磁輻射及其特性:

  1. 紫外線輻射(UV)
    • 細分為真空紫外線(VUV)與遠紫外線(FUV)——合稱 UV-C——、中紫外線(UV-B)以及近紫外線(UV-A)
    • 波長範圍:100 nm 至 400 nm
    • 光子能量:12.4 eV 至 3.1 eV
    • 典型偵測器:CsI、Cs2Te、SiC
  2. 可見光輻射(VIS)
    • 波長範圍:380 nm 至 780 nm
    • 光子能量:3.3 eV 至 1.6 eV
    • 典型偵測器:多鹼光電倍增管(PMT)、Si
  3. 紅外線輻射(IR)
    • 細分為近紅外線(IR-A、IR-B)、中紅外線以及遠紅外線(合稱 IR-C)
    • 波長範圍:780 nm 至 1 mm(106 nm)
    • 光子能量:1.6 eV 至 0.001 eV
    • 典型偵測器:Si、Ge、InGaAs、InAs、PbSnTe、PbSnSe

真空紫外線之所以稱為此名稱,是因為空氣會強烈吸收波長約 200 nm 以下的輻射:氧氣會被分解,並形成臭氧。因此,在此波段進行量測需要以氮氣吹拂或使用真空環境。實際應用中所使用的部分是位於 185 nm 的水銀譜線──這正是用於表面清潔與 AOP 的紫外線臭氧產生技術的基礎。

主題專家

作者:Dr. Mark Paravia

Dr.-Ing. Mark Paravia 是位於 Ettlingen 的 Opsytec Dr. Gröbel GmbH 的董事總經理,並負責領導經認證的校正實驗室。在 KIT 照明技術研究所從事脈衝式氙氣激發準分子放電研究之後,他目前的研究重點為光學輻射量測技術。他是 DIN 標準委員會 FNL 7「光學輻射」的副主席,並為 DVGW 紫外線消毒專案小組的成員。